Toepassing op halfgeleidergebied
Bij de productie van halfgeleiders iswolfraam doelenworden voornamelijk gebruikt in fotolithografie en dunne-filmdepositietechnologie. In het fotolithografieproces zorgen de hoge dichtheid, hoge hardheid en lage chemische reactiviteit van wolfraamdoelen ervoor dat ze nauwkeurige etscontrole kunnen bieden tijdens plasma-etsen, onnodig materiaalverlies kunnen verminderen en de fijnheid en integriteit van circuitpatronen kunnen garanderen. Bij de depositietechnologie voor dunne films vormen wolfraamdoelen dichte films door middel van fysische dampafzetting (PVD) en chemische dampafzetting (CVD). Deze films hebben een hoge hardheid en slijtvastheid, waardoor de mechanische sterkte en duurzaamheid van halfgeleiderapparaten worden verbeterd. Tegelijkertijd helpen hun hoge geleidbaarheid en lage impedantie de stroomgeleidingsefficiëntie te verbeteren en het energieverbruik te verminderen.
Toepassing in spallatie-neutronenbron
Wolfraamdoelen spelen ook een sleutelrol in spallatie-neutronenbronapparaten. Spallatie-neutronenbronnen produceren neutronen door zware atoomkernen te bombarderen met hoogenergetische protonen, die worden gebruikt om de microstructuur en dynamische eigenschappen van materie te bestuderen. Wolfraam is een voorkeursmateriaal geworden in kernfusie-apparaten en spallatie-neutronenbronnen vanwege het hoge smeltpunt, de hoge thermische geleidbaarheid en de lage sputtersnelheid.